超微粒干版是半导体器件和集成电路的基础材料之一， 也是中、大规模集成电路发展中重要环节之一。在生产半导沐元件和电路过程中，要有制版工艺。就是用干版拍摄很微敷米)而又十分精密的图形，这对干版的均匀度、解象力、离猜洁度、感光逢度、牢度等提出了特别高的要求。干版的干瘴要在净:::：室(要求100级)内进行。 干钗的生产过程，首先是乳剂的制配。制配后涂刷在玻瑪上，涂布的厚度达120微米左右。然后进行干燥，干燥的膜厚为5?6微米。我们试验的情况如下： 1.试验条件 干钣是在净化的条件下干燥的。现在只能做到局部净化，苎远红”辐射加热干燥装置放在净化操作台内操作。净化台刁艺暴直又速约0.4弋秒，空气流的温度恒定在20。0左右，空气淹的垮对湿変控制在35?45洚。 远红外线干燦干鷇不需要冷冻工艺〈乳剂涂布以后〉，但要分两次干燥：笔一次芑窆是沒jjj左右，作定形的初步干燥；第二次温芰是於V左右.咋茔獏的最后干燥。以上这些条件，必领严格控制，否幻要影葙干饭乳膜的干燥时间、表面质量和 2试验装置 在两只净化操作台内笈I着相同的两组高低温远红外辐射干燥器,每组有6根隹系陶瓷辐射管，总功率为1.5千瓦，每根装上电压是骀伏.功率是250瓦的电热丝，把6根电热丝串接后接在220伏电源上。每两根管子的间距等于这管子的直径，并把管于固定在支架上，支架是可以上升与下降的，来调节远红外辐射器与干版的距离，如图4所示。在干燥过程中，温度是重要因素，要尽量减少干版干燥温度的波动。测量千版的表面温度，试温时可用半导体点温计接触法来测量5但在生产过程中不能用接触法测量，以免影响干版表面，只能 用非接鮏法的3-2红外测温仪来测量。 3试验经过在使用远红外干燥过程中出现过一些问题。红外线干燥队干燥角度上来看是完全适应于干钣干燥的，可是起初干燥舌的干叛表面在显微镜下观察有皱皮（目测是看不到的后来，经过几个月的反复试验，攻克了这一关，使远红外线完全能适应干燥干版，而且质量较好。 一开始，我们只考虑从干燥效果上来试验。使用复合烧结碳化硅板状辐射器，因板的温度很高且板的结构粗糙易剥落，造成干版表面汽泡与影响干版的清洁度。后来改用金属电热管等离子喷涂的远红外辐 ―1.101口站介工描卜决益了英龙可是管子的表 窆涅亏5在时才能有良好的辐射，此时管表面出现了运乙色百见'jjj时在干燥过程中会对干版产生灰雾，降低感尤苧，是网通传奇65气治系陶瓷远红外辐射縣，它耜300。0就能很 外线,此时没有暗红光出现，管于表面光沽 又不綦裒清洁度基本上能满足要求。 在決定禾用饴系陶資;远红外辐射器卮，我们就进一步试I鲁爱巧车提栏的半賊桌庙女獄傲镜卞观察右缺虫挪条—这从 斤？―1配方中有硝酸锒、溴化钾、碘化钾、氯化镉、氯化钠、 蕖泽金醇、硫酸铬钾、苯并三氣唑、铬钒和明胶等药剂，起凝结 生镆作用的是明股与铬钒，而其它药剂不可能对乳膜有影峒；于熹”明皎和铬钒的各种比例在不同濫度下的干燥进行了试 骓1X9表明，明长和格银只能在很的瓢度下，长时间的照射焉紅耨教好干锤8才不致友生蛾皮现氣也就县说，明腔和 塋褰弩铬沃不遠殳红5线的高芑快逢干燥。以后，我们改用了适应旻邑弁且抆泻V的堅漠剂3卜醛〔1，3克/100毫升）解决丁辽衧現家。按看出规了千版在显影中乳膜有严重脱落的情况：经分析是因薛坚膜剂在乳剂坚膜后形成一张很牢的 度: